Hvis 3-amino-5-merkapto-1,2 inhaleres, 4-triazol, må du flytte pasienten til frisk luft; i tilfelle hudkontakt, ta av de forurensede klærne og vask huden grundig med såpevann og vann. Hvis du føler deg ukomfortabel, kontakt lege; hvis du har øyeklar kontakt, må du skille øyelokkene, skylle med rennende vann eller vanlig saltvann og oppsøke lege umiddelbart. ved inntak må du gurgle umiddelbart, ikke fremkalle brekninger, og søk lege umiddelbart.

Den brukes til å tilberede en rengjøringsløsning for fotoresist

I den vanlige produksjonsprosessen for LED og halvleder dannes fotoresistmasken på overflaten av noen materialer, og mønsteret overføres etter eksponering. Etter å ha oppnådd det nødvendige mønsteret, må den gjenværende fotoresisten strippes før neste prosess. I denne prosessen er det nødvendig å fjerne den unødvendige fotoresisten helt uten å tære noe underlag. For øyeblikket består rengjøringsløsningen for fotoresist hovedsakelig av polært organisk løsningsmiddel, sterk alkali og / eller vann, etc. Fotoresisten på halvlederplaten kan fjernes ved å senke halvlederbrikken i rengjøringsvæsken eller vaske halvlederbrikken med rengjøringsvæsken .

En ny type rengjøringsmiddel for fotoresist er utviklet, som er et ikke-vandig vaskemiddel med lav etsning. Den inneholder: alkoholamin, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol og samløsningsmiddel. Denne typen rengjøringsløsning for fotoresist kan brukes til å fjerne fotoresist i LED og halvleder. Samtidig har den ikke noe angrep på underlaget, som metallaluminium. Dessuten har systemet sterk vannmotstand og utvider driftsvinduet. Den har et godt applikasjonsutsikter innen LED og rengjøring av halvlederbrikker.